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晶圓代工龍頭台積電在5奈米製程方面，全採極紫外光（EUV）微影設備，領先全球半導體業，英特爾（Intel）則還未進入EUV量產的階段。台積電前研發副總、清大半導體研究學院院長林本堅27日透露，英特爾在2002年曾號召企業組成EUV研發聯盟，台積電無法加入，因此改採浸潤式（Immersion）微影技術，反而超越英特爾。
清大半導體研究學院27日揭牌，由台積電前研發副總林本堅擔任院長，林本堅專精微影技術，他接受媒體採訪時表示，英特爾與超微（AMD）、IBM等企業，在2002年就成立了EUV LLC聯盟，期許共同研發極紫外光（EUV）相關設備，導入60、40奈米製程使用。
林本堅指出，聯盟當時有6家廠商，台積電無法加入，只能改採浸潤式微影技術，直到5奈米製程才採用EUV技術；EUV LLC聯盟中，除了除英特爾外，其他成員最後都沒有再持續下去。
林本堅說，半導體應用愈加廣泛，如何壓低成本達到最好的效果才是真正的挑戰，不一定都從EUV技術著手，因為成本較高，可能會划不來。他說，若有其他方式能降低成本，就可以用別的辦法，但這不是說半導體不需要微影技術。
至於台積電可能吸走學院培養人才，林本堅表示，清大半導體研究學院與台積電、聯電、力積電及美光等11家企業合作；他認為，學院提供學生與各家廠商接觸的機會，學生也有望和教授合作，各家廠商應該要自己努力，才能吸引需要的人才。
