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艾司摩爾（ASML）首臺最新型「High-NA EUV」（高數值孔徑極紫外光微影系統）確定賣給英特爾，且在2025年被用來生產晶片。傳出台積電可能最快等到2030年才會使用「High-NA EUV」，不過似乎還沒定案；近日ASML現任商務長、下一任執行長兼總裁富凱（Christophe Fouquet）來臺拜訪台積電，雙方預計商討下世代機臺相關規劃。
據知名科技網站「Tom's Hardware」報導，英特爾已收到全球首臺「High-NA EUV」，並將以此發展18A後的節點（1.8奈米製程）。
或是成本考量
報導說，台積電似乎不急著在短時間內導入「High-NA EUV」，SemiAnalysis分析認為，使用該系統代表要投入更多成本，可能是台積電的主要考量之一。
報導說，英特爾思考的是不同的事，希望透過高數值孔徑EUV，領先台積電及三星，以確保戰略利益。台積電如果選擇晚英特爾4至5年才使用「High-NA EUV」，屆時如何保持技術領先，受到市場關注。
ASML下任CEO將來臺
台積電預計在本月18日舉辦法說會，富凱近日將率領高層來臺拜訪台積電與供應商。
富凱與台積電討論極紫外光設備的供應與下世代機臺等規劃，突顯雙方在先進製程持續緊密合作。
另外，台積電在日本熊本的首座廠房預計在今年投產，如今廠區已完工，據日媒共同社報導，台積電日本子公司JASM於2022年4月開始建設，辦公大樓部分區域在去年8月啟用，廠房則在去年底完工，已開始將生產設備搬入廠房。
據日本雅虎報導，台積電熊本廠建廠幾乎是24小時趕工狀態，工程僅花約1年8個月的時間，預計在今年2月24日舉行開幕儀式。◇
