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台積電高層15日透露，台積電預定在2026下半年發布的次世代技術製程「A16」，不一定需要使用荷蘭半導體設備業龍頭艾司摩爾（ASML）最新型機台，主要原因是設備價格非常高昂，外媒披露一部高數值孔徑極紫外光曝光機（High-NA EUV）就要價超過新台幣百億元。
綜合媒體報導，台積電是艾司摩爾一般極紫外光曝光機的最大客戶，但台積電業務開發資深副總經理張曉強出席荷蘭阿姆斯特丹的研討會時，首度談及台積電A16先進製程節點，不一定需要使用ASML的High NA EUV設備，認為現有EUV能力應有辦法支援，台積電可繼續使用已擁有的舊款EUV。
張曉強說，使用新的ASML技術，公司都會評估是否能帶來最佳經濟效益，取得平衡點。他也提及，「我喜歡這項技術、但不喜歡高昂的價格」，因為營運晶圓廠的成本，包括營建、工具、電力及原物料持續上漲，已成為產業界面臨的集體挑戰。
究竟ASML這款新設備High-NA EUV有多貴？外媒表示，每台要價高達3.5億歐元（約新台幣121.9億元），可協助將晶片設計縮小最多2/3，重量等同於兩台空巴A320客機，但價格也遠高於一般EUV設備價格的2億歐元（約新台幣69.6億元）。
此外，台積電歐洲子公司總經理Paul de Bot表示，位於德國德勒斯登（Dresden）的歐洲半導體製造公司（ESMC）將如期在今年動工、2027年投產。
張曉強認為，他相信《歐洲晶片法》為該廠提供的補貼應能獲准，德勒斯登廠將生產22奈米晶片，提供最先進的微控制器（MCU）供應大型汽車客戶所需，且不排除台積電會在歐洲擴大投資，生產更先進晶片，但這可能還需要數年時間。
