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中共受制於美國晶片禁令，變得難以取得先進晶片製程設備、發展高端晶片。荷蘭半導體設備製造龍頭艾司摩爾（ASML）執行長福克（Christophe Fouquet）9日表示，中國想要掌握極紫外光（EUV）曝光機的技術非常困難，因為專業知識都在歐洲。
德國「商務日報」（Handelsblatt）9日報導指出，針對美中科技競逐越加激烈，ASML半導體設備因為沒有獲得出口許可證，也不得向中國出售EUV曝光機。對此，福克認為，以正面角度來看，這表明我們是關鍵樞紐，同時也證明歐洲在重要行業中發揮了重要作用。
福克表示，曝光機技術非常複雜，並且要將其整合為一個系統非常困難，對中國而言，沒有歐洲的專業知識，想掌握先進晶片技術極為困難，因為我們知識非常豐富、整個供應鏈也都在歐洲。
市場擔憂中國將掌握曝光機技術，福克指出，中國在先進晶片領域，技術可能落後美國10年眾所皆知，英特爾執行長季辛格（Pat Gelsinger）曾於公開場合明示這一點，所以中國目前更活躍於成熟晶片領域。他認為，西方國家也需要更多的籌碼，建立自身的優勢。
針對EUV曝光機造價成本每台超過1.5億歐元，尤其更高端的新一代High-NA EUV，成本甚至達到3億歐元，大型晶片製造商是否買單？福克說，許多報導稱新一代設備沒有被使用，不過事實並非如此。他強調，即便ASML機器越來越貴，但我們永遠不會建造成本高於附加價值的設備。
此外，ASML為全球最大的晶片製造設備供應商，也是歐洲第三大市值公司，週一（8日）股價首度衝破1,000歐元關卡，寫下歷史新高紀錄。
