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荷蘭政府6日公布新的出口管制規則，將擴大對ASML（艾司摩爾）晶片生產設備的出口管制。
週五發布的新規適用於ASML較舊型號深紫外侵潤式光刻系統（deep ultraviolet immersion lithography systems）的對華出口，並將於9月7日生效。
荷蘭外貿大臣：擴法管制是處於安全考量
與其它國家一樣，荷蘭認為這種限制是一項關鍵的國家安全要求。
「我做出這一決定是出於安全考量。」荷蘭外貿與發展大臣萊奈特‧克萊沃（Reinette Klever）在一份聲明中說，「我們看到，技術進步導致與這種特定製造設備出口相關的安全風險增加，特別是在當前的地緣政治背景下。」
ASML在週五發布的一份聲明中表示，政府的最新措施標誌著一種「技術性變化」，預計不會對ASML在2024年或更長遠的財務前景產生任何影響。
最新規定涉及哪些ASML光刻機
ASML主要生產兩種類型的晶片製造工具，即極紫外（EUV）光刻機和深紫外（DUV）光刻機。
EUV被台積電等晶片製造商用來生產高端晶片。DUV光刻機則用於生產其它類型的半導體，如存儲晶片，這些晶片被廣泛應用於筆記本電腦和手機等產品中。
在美國的壓力下，荷蘭政府一直不允許ASML向中國客戶交付其最好的EUV光刻機，同時在2023年9月開始要求NXT:2000系列和更先進的DUV工具獲得出口許可。
2023年10月，美國單方面開始限制ASML的1970i和1980i DUV侵潤式光刻系統的出口，因為這些工具中含有一些美國部件。近年來，美國加大對華晶片出口管制，以防止中共獲得先進晶片，從而加強中共的軍事力量。
荷蘭政府本週五宣布的出口管制涉及的是1970i及1980i DUV侵潤式光刻系統。在9月7日生效後，ASML對華出口這兩款晶片製造工具則需要獲得荷蘭政府而非美國政府的許可。
ASML是美中晶片大戰的焦點。光刻技術是晶片製造商的核心所在，而ASML是目前全球唯一一家生產尖端光刻機的生產商，這些光刻機用於生產從電動車到軍事裝備等各種用途的高端晶片。
荷蘭政府做出這一決定的前一天，也就是週四（9月5日），美國公布對包括量子計算在內的先進技術實施新控制措施，以協同國際合作夥伴已經施加的限制。
ASML首席執行官週三表示，由於已經實施的限制，中共在晶片製造方面的進步正在放緩。◇
