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美國正在擴大對中國的晶片管制，談到影響層面，荷蘭晶片設備製造商艾司摩爾ASML執行長福克（Christophe Fouquet）近日表示，美國對中國禁止出口極紫外光（EUV）曝光設備，會導致中國無法獲得尖端曝光機，中國晶片技術將落後西方10至15年。
綜合媒體報導，福克日前接受荷蘭「商務日報」（NRC Handelsblad）專訪，提及美國晶片限制對中國晶片製造業的影響。
福克說，透過禁止出口極紫外光曝光技術，壓制中國技術成長，「這些措施確實展現效果」。他強調，中芯國際曾訂購1台EUV設備，但ASML為遵守國際出口管制規範《瓦聖那協議》以及美國制裁，從未將EUV設備出口至中國。
不過，報導說，ASML仍持續向中國出貨先進DUV設備，例如「Twinscan NXT:2000i」機型，可生產5奈米、7奈米製程晶片，這反而讓中國業者能夠應對美國制裁。另外，EUV設備無法進入中國，不過，華為及其合作夥伴試圖開發極紫外線曝光技術，預計耗時約10至15年。
報導認為，中國不太可能很快就建造出類似Twinscan NXT:2000i的機器，但假如成功開發出來，中國業者將跟ASML展開競爭，對ASML並非好事。
美國正對中國成熟製程晶片展開301調查，進一步封殺中國生產晶片能力，據巴隆周刊報導，今年ASML有一半的設備銷售額來自中國，未來隨著美國政府將成熟製程晶片納入出口管制政策裡，ASML的獲利能力將受到衝擊。
不只ASML，報導說，美商科磊在2023年的全球營收佔比，來自中國約佔43%，科林研發（Lam Research）和應用材料則分別佔42%和37%。報導說，如果美國不出手管制，包括德州儀器 、意法半導體和格羅方德等公司可能會直接受到傷害，許多成熟製程晶片公司將面臨來自成本較低的中國晶片的激烈競爭。◇
